Sanghyeon Ju

TCAD · pMOS PROCESS OPTIMIZATION

Results and Data

Results and Data

두 최적화 방식에서 선정한 최종 후보와 공개 CSV를 정리합니다.

최종 후보 비교

Metric Numerical Method Plot-Based Method Interpretation
LDD_Dose / LDD_E 7e13 / 7 keV 3e13 / 3 keV plot method가 낮은 LDD 조건 선택
SD_Dose / SD_E 4e16 / 23 keV 5e16 / 10 keV junction 조건의 trade-off 차이
RTA 5 s 3 s plot method가 짧은 anneal 선택
Spacer_Dep 0.25 0.30 leakage와 resistance 균형 차이
Ion 1.474e-04 A/µm 1.35e-04 A/µm plot method 약 9.2% 낮음
Ioff 1.547e-15 A/µm 4.93e-16 A/µm plot method 약 68.1% 낮음
SS 85.660 mV/dec 85.181 mV/dec plot method 약 0.56% 낮음
gm 1.044e-04 9.91e-05 plot method 약 5.3% 낮음

Final method comparison

Plot-based 조건은 Ion과 gm이 조금 낮지만 목표 Ion을 충분히 만족했고, Ioff와 SS가 개선되어 최종 대표 조건으로 선정했습니다.

최종 조건

Parameter Final Value
Lg 0.25
GOxTime 10
NWell 1e17 cm^-3
LDD_Dose / LDD_E 3e13 cm^-2 / 3 keV
SD_Dose / SD_E 5e16 cm^-2 / 10 keV
RTA 3 s at 1000 °C
Spacer_Dep 0.30
Vg / Vd -2.5 V / -1.0 V

성능 검증

Metric Result Target Check
Vtgm -1.1421 V Negative pMOS threshold Pass
Ion 1.35e-04 A/µm > 1e-5 Pass
Ioff 4.93e-16 A/µm < 1e-14 Pass
SS 85.181 mV/dec < 100 Pass
Vg0_actual 0 V 0 V Verified
VgIon_actual -2.5 V -2.5 V Verified

공개 데이터

최종 조건은 평가한 split 범위에서 선정한 balanced condition이며, 모든 가능한 조합의 global optimum을 의미하지 않습니다.